特許

J-GLOBAL ID：200903005983159360

化粧品基材

発明者： 中島 徹 ,  渡辺 美広 ,  坂 直子
出願人/特許権者： 日澱化學株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-355303
公開番号（公開出願番号）：特開平7-173029
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1995年07月11日
要約：

【要約】【構成】 窒素含有率0.2〜3重量%で、30%水溶液の30°C粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ガラクトマンナンからなる化粧品基材。【効果】 本発明の低粘度カチオン化ガラクトマンナンを用いた化粧品は、良好な使用感、仕上感を与える。

請求項（抜粋）：

ガラクトマンナンのヒドロキシル基の一部が下記化1の一般式(I)で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が0.2〜3重量%で30%水溶液の30°C粘度が3〜500cpsである低粘度カチオン化ガラクトマンナンからなる化粧品基材、【化1】

IPC (3件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/48