特許
J-GLOBAL ID:200903005986409588
水質制御システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉武 賢次 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-270742
公開番号(公開出願番号):特開2003-080278
出願日: 2001年09月06日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】【課題】 前オゾン処理による凝集性の最適ポイントを凝集処理前後の蛍光強度差から把握し、前オゾン注入率を最適に制御可能にする水質制御システムを提供する。【解決手段】 水質制御システムは、水質制御システム被処理水にオゾンを注入する前オゾン処理工程部(9)と、前オゾン処理工程部でオゾンを注入された水に凝集剤を添加する凝集処理工程部(3)と、凝集剤を添加する前と後との間の蛍光強度の差を検出する蛍光強度差検出手段(10,11)と、蛍光強度差検出手段による検出信号に基づいて、凝集剤による凝集効果が最大となるように前オゾン処理工程部における前オゾン注入率を求める制御手段(13)と、制御手段で求めたオゾン注入率で、前オゾン処理工程部においてオゾンを注入するオゾン発生手段(14)と、を備えることを特徴とする。
請求項(抜粋):
被処理水にオゾンを注入する前オゾン処理工程部と、前記前オゾン処理工程部でオゾンを注入された水に凝集剤を添加する凝集処理工程部と、前記凝集剤を添加する前と後との間の蛍光強度の差を検出する蛍光強度差検出手段と、前記蛍光強度差検出手段による検出信号に基づいて、前記凝集剤による凝集効果が最大となるように前記前オゾン処理工程部における前オゾン注入率を求める制御手段と、前記制御手段で求めた前記オゾン注入率で、前記前オゾン処理工程部においてオゾンを注入するオゾン発生手段と、を備えることを特徴とする水質制御システム。
IPC (4件):
C02F 1/78
, C02F 1/00
, C02F 1/52
, G01N 21/64
FI (5件):
C02F 1/78
, C02F 1/00 T
, C02F 1/00 V
, C02F 1/52 K
, G01N 21/64 Z
Fターム (23件):
2G043AA01
, 2G043BA09
, 2G043BA14
, 2G043CA03
, 2G043DA05
, 2G043EA01
, 2G043NA01
, 4D015BA12
, 4D015BA19
, 4D015CA14
, 4D015DA04
, 4D015DA06
, 4D015DA12
, 4D015DA40
, 4D015EA03
, 4D015FA01
, 4D015FA24
, 4D050AA02
, 4D050AB06
, 4D050BB02
, 4D050BD03
, 4D050BD08
, 4D050CA16
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