枚葉式洗浄装置の基板工程用レジスト剥離液及びそれを用いた剥離方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-207817
公開番号（公開出願番号）：特開2005-062259
出願日： 2003年08月19日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：

【課題】枚葉式洗浄装置において、装置的、コスト的な制限からSPM洗浄液のような濃厚で高温で引火点を有するレジスト剥離液を用いることができない。そこで当該洗浄装置で使用できる基板工程用のレジスト剥離液及びその使用方法を提供する。【解決手段】シアノエチルエチレンジアミン、シアノエチルシクロヘキシルアミン、水、及び水酸化テトラメチルアンモニウム及び/又はアンモニアを含んでなるレジスト剥離液を、20〜80°C、30秒以内の条件下で枚葉式洗浄装置の基板工程におけるレジスト及び/又は反射防止膜の剥離に用いる。またその好適な条件としてシアノエチルエチレンジアミンの濃度が0.1〜15重量%、シアノエチルシクロヘキシルアミンの濃度が0.1〜5重量%、水酸化テトラメチルアンモニウム及び/又はアンモニアの濃度が0.001〜0.1重量%で使用する。

請求項（抜粋）：

シアノエチルエチレンジアミン、シアノエチルシクロヘキシルアミン、水、及び水酸化テトラメチルアンモニウム及び/又はアンモニアを含んでなるレジスト剥離液。

IPC (3件)：

G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304

FI (3件)：

G03F7/42 , H01L21/304 647A , H01L21/30 572B

Fターム (4件)：

2H096AA25 , 2H096LA03 , 2H096LA16 , 5F046MA02

前のページに戻る