特許

J-GLOBAL ID：200903006006490399

露光装置及びその使用方法、露光方法、並びにマスクの製造方法

発明者： 池田 正俊
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-188322
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012453
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 露光装置本体の小型軽量化及びフットプリントの低減を実現する。【解決手段】 マスクRを下方から照明する照明系14と、マスクRを投影光学系PLの下方で水平に保持するマスクステージRSTと、投影光学系PLの上方で基板Wを水平に保持して2次元移動する基板ステージWSTとを備える。この場合、照明系14は、マスクRを下方から照明するので、マスクステージRST、投影光学系PL、及び基板ステージ等を含む露光装置本体12とは分離して配置することが可能になる。従って、従来のように露光装置本体に照明光学系が含まれない分、露光装置本体の小型・軽量化及びフットプリントの低減が可能である。

請求項（抜粋）：

マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して基板に転写する露光装置であって、前記マスクを下方から照明する照明系と;前記マスクを前記投影光学系の下方で水平に保持するマスクステージと;前記投影光学系の上方で前記基板を水平に保持して2次元移動する基板ステージとを備える露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 515 G

Fターム (5件)：

5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB21 ,  5F046DA04 ,  5F046DA12