特許

J-GLOBAL ID：200903006007820228

酸性ガス除去装置及びこれを備えたガスハイドレート製造システム

発明者： 吉川 孝三 ,  北 吉博 ,  江間 晴彦 ,  渡部 正治 ,  近藤 雄一 ,  藤田 尚義 ,  木村 隆宏 ,  遠藤 仁
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 藤田 考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-140844
公開番号（公開出願番号）：特開2001-323289
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：

【要約】【課題】 アルカリ薬品等の危険物を用いることなく、酸性ガスの分離速度及び分離純度を安定して高め、天然ガスの処理効率を高めて労力及びコストを低減することができる酸性ガス除去装置、及びこれを備えたガスハイドレート製造システムを提供する。【解決手段】 天然ガス中に存在する酸性ガスを除去するための酸性ガス除去装置2の構成を、天然ガス中の酸性ガスを水和させて酸性ガスハイドレートを生成する生成容器21と、生成容器21内に酸性ガスを含む天然ガスを導入するガス導入管路22と、酸性ガスハイドレートを生成容器21外に抜き出すハイドレート抜出管路23と、酸性ガスが除去された天然ガスを回収するガス回収管路24と、を備えるようにした。

請求項（抜粋）：

天然ガス中に存在する酸性ガスを除去するための装置であって、天然ガス中の酸性ガスを水和させて酸性ガスハイドレートを生成する生成容器と、酸性ガスを含む天然ガスを前記生成容器内に導入するガス導入管路と、前記酸性ガスハイドレートを前記生成容器外に抜き出すハイドレート抜出管路と、酸性ガスが除去された天然ガスを回収するガス回収管路と、を備えていることを特徴とする酸性ガス除去装置。

IPC (2件)：

C10L 3/10 ,  F25J 3/08

FI (2件)：

F25J 3/08 ,  C10L 3/00 B

Fターム (8件)：

4D047AA10 ,  4D047AB08 ,  4D047BA02 ,  4D047BA07 ,  4D047BA08 ,  4D047BB05 ,  4D047DA10 ,  4D047EA00