特許
J-GLOBAL ID：200903006007951128
スクリーン印刷用マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
折寄 武士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-302886
公開番号（公開出願番号）：特開平6-130676
出願日： 1992年10月14日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：
【要約】【目的】 スクリーン印刷用マスクの耐摩耗性、印刷寸法安定性の向上、微細線印刷の実現を図る。【構成】 電鋳母型1の表面に、現像液に難溶性でかつ粘弾性を有するメッシュ保持層2を形成する。次いで、網目3aに液状フォトレジスト4aを埋めて硬化し、かつ表面にドライフィルムレジスト4bを配した、導電性を有するメッシュ3を、前記メッシュ保持層2の上に配する。次いでドライフィルムレジスト4の上に印刷パターンフィルム5を置き、焼き付け、現像処理して印刷パターンのフォトレジスト膜6を形成する。メッシュ3のフォトレジスト膜6で覆われていない表面に電鋳により電鋳金属薄膜7を形成する。最後にメッシュ3および電鋳金属薄膜7を電鋳母型1から剥離する。
請求項（抜粋）：
粘弾性を有しかつフォトレジスト膜形成用の現像液に対し難溶性の材料からなるメッシュ保持層2を、電鋳母型1の表面に配する工程と、網目3aに液状フォトレジスト4aを埋めて硬化し、かつ表面にドライフィルムレジスト4bを配した、導電性を有するメッシュ3を、前記メッシュ保持層2の上に配する工程と、前記ドライフィルムレジスト4bの上に印刷パターンフィルム5を置き、焼き付け、現像処理して印刷パターンのフォトレジスト膜6を形成する工程と、メッシュ3のフォトレジスト膜6で覆われていない表面に電鋳により電鋳金属薄膜7を形成する工程と、メッシュ3および電鋳金属薄膜7を電鋳母型1から剥離する工程とからなるスクリーン印刷用マスクの製造方法。
IPC (2件)：
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