特許

J-GLOBAL ID：200903006008327193

ネガ型レジスト組成物

発明者： 梶田 徹 ,  小林 英一 ,  大田 利幸 ,  三浦 孝夫
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-326748
公開番号（公開出願番号）：特開平5-134412
出願日： 1991年11月15日
公開日（公表日）： 1993年05月28日
要約：

【要約】【構成】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、および(C)芳香環に直結した官能基として-OR基(ここで、Rは置換メチル基、置換エチル基、シリル基、アルコキシカルボニル基またはアシル基である)および-CH2OX基(ここで、Xは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または上記Rを定義する基である)を有しそして酸存在下において上記アルカリ可溶性樹脂を架橋しうる芳香族化合物、例えば下記式(A)【化1】で表わされる化合物を含有してなるネガ型レジスト組成物。【効果】現像性、解像度、パターン形状および耐熱性に優れ、架橋剤の熱安定性、パターンが形成された放射線照射部の膜減り、現像時のパターンの膨潤およびパターンの蛇行等の問題を解決し、特に遠紫外線以下の波長の光(例えばエキシマーレーザー光等)、電子線、X線等の露光にも好適に使用されるネガ型レジストを提供する。

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、および(C)芳香環に直結した官能基として-OR基(ここで、Rは置換メチル基、置換エチル基、シリル基、アルコキシカルボニル基またはアシル基である)および-CH2OX基(ここで、Xは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基または上記Rを定義する基である)を有しそして酸存在下において上記アルカリ可溶性樹脂を架橋しうる芳香族化合物、を含有してなるネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-150848
  
• 特開平2-154266
  
• 特開昭62-038448
  
• 特開昭64-054441