エレクトロクロミック素子の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-183795
公開番号（公開出願番号）：特開平6-027499
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：

【要約】【目的】着色時の透過率と消色時の透過率との差が大きい、良好な特性を有するエレクトロクロミック素子を基板の割れや変形が生じないように製造する。【構成】一方または両方が透明な一対の電極層、イリジウムの酸化物または水酸化物からなる分散質と透明導電性物質からなる分散媒との混合膜層により形成されたエレクトロクロミック物質層およびイオン導電層を少なくとも有するエレクトロクロミック素子の製造方法において、前記エレクトロクロミック物質層をアルゴンガスと酸素ガスによる反応性直流スパッタリング法により成膜した。

請求項（抜粋）：

一方または両方が透明な一対の電極層、イリジウムの酸化物または水酸化物からなる分散質と透明導電性物質からなる分散媒との混合膜層により形成されたエレクトロクロミック物質層およびイオン導電層を少なくとも有するエレクトロクロミック素子の製造方法において、前記エレクトロクロミック物質層をアルゴンガスと酸素ガスによる反応性直流スパッタリング法により成膜することを特徴とするエレクトロクロミック素子の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭61-029822
特開昭59-101627

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