特許
J-GLOBAL ID：200903006009680407

亜酸化窒素ガス含有ガスの処理方法及びその処理触媒

発明者：
亀岡 聡

亀岡 聡 について

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国森 公夫

国森 公夫 について

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浮須 祐二

浮須 祐二 について

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宮寺 達雄

宮寺 達雄 について


出願人/特許権者：
経済産業省産業技術総合研究所長

経済産業省産業技術総合研究所長 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-108651
公開番号（公開出願番号）：特開2001-286736
出願日： 2000年04月10日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：
【要約】【課題】亜酸化窒素の処理方法としては比較的低温であるとされる、300〜350°Cの温度で、かつ水蒸気,NOx及びSOxなどの影響を受けずに、炭化水素等の還元ガスの存在下に処理できる、N2Oを含有する排ガスの処理方法及びその触媒の提供。【解決手段】亜酸化窒素ガスを含有するガスを処理して亜酸化窒素を還元処理する亜酸化窒素の処理方法において、金属イオンによりイオン交換及び/又は金属イオンを含浸させたベータゼオライトと接触させることを特徴とする亜酸化窒素の処理方法。
請求項（抜粋）：
亜酸化窒素ガスを含有するガスを処理して亜酸化窒素を還元処理する亜酸化窒素の処理方法において、金属イオンによりイオン交換及び/又は金属イオンを含浸させたベータゼオライトと接触させることを特徴とする亜酸化窒素の処理方法。
IPC (3件)：
B01D 53/94 ,  B01J 29/72 ZAB ,  B01J 29/76
FI (3件)：
B01J 29/72 ZAB A ,  B01J 29/76 A ,  B01D 53/36 102 C
Fターム (40件)：
4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA11X ,  4D048BA11Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA36X ,  4D048BA36Y ,  4D048BA37Y ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA07A ,  4G069BA07B ,  4G069BA36A ,  4G069BC31A ,  4G069BC66A ,  4G069BC66B ,  4G069BC67A ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069CA02 ,  4G069CA04 ,  4G069CA08 ,  4G069CA13 ,  4G069DA06 ,  4G069FA01 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB16 ,  4G069ZA19A ,  4G069ZA19B ,  4G069ZD01 ,  4G069ZD02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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