特許
J-GLOBAL ID：200903006010590810
プラズマ処理システム及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-541630
公開番号（公開出願番号）：特表2006-501681
出願日： 2003年09月25日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】プラズマ処理システム及び方法【解決手段】プラズマ処理システムと共に診断システムを作動させるプラズマ処理システム及び方法が提供される。該診断システムは、該プラズマ処理システムのプラズマ処理チャンバと連通しており、かつプラズマプロセス状態を検知する診断センサを含む。該診断システムは、該診断センサの汚染を実質的に低減するように構成されている。該方法は、該診断センサの汚染を実質的に低減することと、該プラズマプロセスおよび/または該処理チャンバ内の基板の状態を検知することとを含む。
請求項（抜粋）：
処理チャンバの壁に形成された開口を有し、かつプラズマ処理領域を内部に含む処理チャンバと、
前記チャンバ内の基板を前記処理領域内に支持するように構成、かつ配置されているチャックと、
前記プラズマ処理領域内でのプラズマプロセス中に、プラズマを生成するように構成、かつ配置され、前記チャンバと連通しているプラズマジェネレータと、
前記チャンバと連通している診断センサを有し、かつ前記診断センサの汚染を実質的に低減するように構成、かつ配置されている診断システムとを備えており、
前記診断システムは、前記プラズマ処理領域と、前記診断センサとの間に形成されている連通路を含み、かつ所定の長さと所定の径とを有しており、
前記連通路は、前記所定の長さを前記所定の径で割ることによって与えられる、少なくとも4の長さ対径の比を有しているプラズマ処理システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/302 103
, H05H1/00 A
5F004AA16
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC01
, 5F004BC03
, 5F004CB09
, 5F004CB20
, 5F045AA08
, 5F045BB14
, 5F045EC05
, 5F045EJ01
, 5F045EK01
, 5F045GB08
