特許
J-GLOBAL ID:200903006019118332
ポリアクリロニトリル系炭素化体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
林 恒徳 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354636
公開番号(公開出願番号):特開2002-160912
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年06月04日
要約:
【要約】【課題】 効率的にアクリロニトリル樹脂の炭素化体を製造する方法を提供する。【解決手段】 ポリアクリロニトリル樹脂をヨウ素ガスと酸素とを含むガスと接触させ、ついで焼成する。
請求項(抜粋):
ポリアクリロニトリル樹脂をヨウ素ガスと酸素とを含むガスと接触せしめ不炎化体とした後、300〜3000°Cの不活性ガスの雰囲気内で焼成することを特徴とするポリアクリロニトリル系炭素化体の製造方法。
IPC (2件):
C01B 31/02 101
, D01F 9/22
FI (2件):
C01B 31/02 101 Z
, D01F 9/22
Fターム (18件):
4G046CA04
, 4G046CB01
, 4G046CB03
, 4G046CB10
, 4G046CC02
, 4G046CC03
, 4G046EA03
, 4G046EB02
, 4G046EC02
, 4G046EC03
, 4L037CS03
, 4L037CT25
, 4L037FA01
, 4L037FA02
, 4L037PC09
, 4L037PS03
, 4L037PS18
, 4L037PS20
引用特許:
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