特許

J-GLOBAL ID：200903006032474857

ナノ細孔シリカの機械的強度を最適化する方法

発明者： ウー,ホゥイ-チュン ,  ドレジ,ジェイムス・エス ,  ブランガード,リサ・ベス ,  ラモス,テレサ ,  スミス,ダグラス・エム ,  ウォーレス,スティーブン ,  ロデリック,ケビン
出願人/特許権者： アライドシグナル・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-568113
公開番号（公開出願番号）：特表2002-524849
出願日： 1999年08月17日
公開日（公表日）： 2002年08月06日
要約：

【要約】基体にナノ多孔質誘電被膜を生成する方法。本方法には、基体の表面に実質的に均一なアルコキシシランゲル組成物を生成し(該アルコキシシランゲル組成物は、少なくとも1つのアルコキシシラン、有機溶媒組成物、水、および任意のベース触媒の組合せを含む);基体を十分な時間かつ十分な温度で有機溶媒蒸気雰囲気中で加熱し、それによりゲル組成物を縮合し;ついでゲル組成物を硬化させて基体上に高機械的強度を有するナノ多孔質誘電被膜を生成することが含まれる。

請求項（抜粋）：

基体上にナノ細孔誘電性コーティングを形成する方法であって、(a)実質的に均一なアルコキシシランゲル組成物を基体の表面上に形成し、このアルコキシシランゲル組成物は少なくとも1種のアルコキシシラン、有機溶媒組成物、水及び所望による塩基触媒の組合せを含み、(b)基体を有機溶媒の蒸気雰囲気中で、十分な時間かつ十分な温度で加熱して、それによってゲル組成物を凝縮させ、そしてその後、(c)ゲル組成物を硬化してナノ細孔誘電性コーティングを基体上に形成することを含む前記の方法。

IPC (7件)：

H01L 21/316 ,  C01B 33/152 ,  C08G 77/02 ,  C08J 7/06 ,  C09D183/02 ,  H01L 21/312 ,  C08L 83:02

FI (7件)：

H01L 21/316 G ,  C01B 33/152 B ,  C08G 77/02 ,  C08J 7/06 Z ,  C09D183/02 ,  H01L 21/312 C ,  C08L 83:02

Fターム (35件)：

4F006AA42 ,  4F006AB67 ,  4F006BA05 ,  4F006CA08 ,  4F006DA04 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072BB15 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ38 ,  4G072JJ39 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK03 ,  4G072KK15 ,  4G072KK17 ,  4G072LL06 ,  4G072LL15 ,  4G072RR01 ,  4G072UU01 ,  4J035AA01 ,  4J035AA02 ,  4J038DL021 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038NA17 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058BB02 ,  5F058BC02 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01