特許
J-GLOBAL ID：200903006041810983
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲岡 耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-262348
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102850
出願日： 1997年09月26日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：
【要約】【課題】処理液の状態を精度良く制御でき、かつ、処理液の状態が急変した場合にも、すみやかに目標の状態に導くことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】密閉構造の薬液タンク20に窒素ガス供給部22からの加圧された窒素ガスを供給することにより、薬液流通路11に薬液が送り出されるようになっている。窒素ガスの圧力は、電空レギュレータ32の制御を通じて、この電空レギュレータ32からの圧縮空気により作動される耐食レギュレータ32を制御することにより、変更することができる。これにより、結果として、薬液流通路11内の薬液の圧力が制御される。コントローラ35は、圧力センサ25により検出される薬液流通路11内の薬液の圧力が目標値の近傍の値であれば、PID制御により、また薬液の圧力が目標値から大きく異なれば、一定値出力により、電空レギュレータ32を制御する。
請求項（抜粋）：
基板に対して処理を施すための処理液が流通する処理液流通路と、この処理液流通路を流通する処理液の状態を検出して状態検出値として出力する状態検出部と、この状態検出部において目標となる状態目標値を記憶する状態目標値記憶部と、上記処理液流通路を流通する処理液の状態を変更する状態変更部と、制御則として、比例動作および積分動作を行うことにより、上記状態検出値に基づいて上記状態変更部を制御して動作させるPI制御部と、上記状態目標値に対応して予め定められた一定の出力値を上記状態変更部に与えて動作させる一定値出力部とを含むことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, B05C 11/10
, C23G 3/00
, H01L 21/304 341
H01L 21/02 D
, B05C 11/10
, C23G 3/00 Z
, H01L 21/304 341 S
