特許

J-GLOBAL ID：200903006042130471

無機ポリマーの形成方法

発明者： 中 島 淳 二 ,  西 村 和 彦 ,  山 本 安 信
出願人/特許権者： アイシン精機株式会社 ,  アイシン辰栄株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344634
公開番号（公開出願番号）：特開平6-191858
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】【目的】本発明の目的は、紫外線を用いることなく、より低温で無機ポリマーを形成させる方法を提供することである。【構成】テトラエトキシシラン等の金属化合物と、アルコールと、水と、ケイフッ化水素酸あるいはケイフッ化水素酸塩とを混合した溶液を混合攪拌し、基材表面に塗布した後、100°Cで3時間乾燥、焼成してポリマー化させることを特徴とする、無機ポリマーの形成方法である。

請求項（抜粋）：

金属化合物と、アルコールと、水と、ケイフッ化水素酸あるいはケイフッ化水素酸塩とを混合した溶液を調製する第1の工程と、前記溶液を基材表面に塗布して塗膜を形成する第2の工程と、前記塗膜を焼成させる第3の工程とを順次行うことを特徴とする無機ポリマーの形成方法。

IPC (4件)：

C03B 8/02 ,  C01B 33/00 ,  C03C 17/25 ,  C09D 5/00 PPG