特許

J-GLOBAL ID：200903006042383930

プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置

発明者： 吉田 秀樹 ,  高橋 喜代司
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-183876
公開番号（公開出願番号）：特開平11-029872
出願日： 1997年07月09日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】ガス成分に炭素原子と水素原子を含み、排気系に油拡散ポンプを用いたものにおいて、油拡散ポンプの急速な劣化を防止することができるプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置は、真空容器1と、炭素原子と水素原子を含むガスを導入する導入口3を有し真空容器1内に配設されてガスをプラズマ化する放電管5と、真空容器1の上部に排気口9aを有して放電管5よりも真空容器1内を低圧に排気する油拡散ポンプ9とを備えている。

請求項（抜粋）：

真空容器内に処理対象およびプラズマ発生室を配置し、油拡散ポンプにより前記真空容器内を前記プラズマ発生室内よりも低圧となるように排気するプラズマ処理装置を用いたプラズマ処理方法であって、炭素原子と水素原子を含むガスを前記プラズマ発生室内でプラズマ化する際に、前記真空容器内の上方より排気することを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (4件)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46 ,  G11B 5/85

FI (4件)：

C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H05H 1/46 A ,  G11B 5/85 Z