特許

J-GLOBAL ID：200903006046114900

高分子シートの製造方法及び光学用高分子シート

発明者： 後藤 英樹 ,  江口 敏正
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-168020
公開番号（公開出願番号）：特開2001-348446
出願日： 2000年06月05日
公開日（公表日）： 2001年12月18日
要約：

【要約】【課題】 表面平滑性に優れた高分子シートの連続製造法、製造装置及びこれを用いた光学用高分子シートを提供すること。【解決手段】 高分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射した後に、表面粗さの最大(Rmax)がRmax≦0.1μmの平滑面に密着させて紫外線を照射し、平滑面を転写、成形する高分子シートの製造方法。

請求項（抜粋）：

高分子シート原反上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布またはラミネートし、該紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射した後に、表面粗さの最大(Rmax)がRmax≦0.1μmの平滑面に密着させて紫外線を照射し、平滑面を転写、成形することを特徴とする高分子シートの製造方法。

IPC (3件)：

C08J 7/04 CEZ ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L 81:06

FI (3件)：

C08J 7/04 CEZ Z ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L 81:06

Fターム (13件)：

2H090JA02 ,  2H090JA06 ,  2H090JB03 ,  2H090JC03 ,  2H090JC07 ,  2H090KA08 ,  4F006AA36 ,  4F006AA40 ,  4F006AB24 ,  4F006BA09 ,  4F006CA05 ,  4F006DA04 ,  4F006EA03