特許
J-GLOBAL ID：200903006055513167
フォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-113809
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305453
出願日： 1998年04月23日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】フォトレジストの不完全灰化物や側壁堆積膜等のフォトレジストアッシング残滓を良好に除去でき、基板ウェハ上の絶縁膜や導電性膜の腐食性も低いフォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤を開発すること。【解決手段】0.01〜5重量%の濃度のフッ素系界面活性剤水溶液、好適にはパーフルオロアルキルアンモニウム塩水溶液からなるフォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤。
請求項（抜粋）：
0.01〜5重量%の濃度のフッ素系界面活性剤水溶液からなるフォトレジストアッシング残滓洗浄除去剤。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
