特許
J-GLOBAL ID:200903006066368703

微粒子配置基板の製造方法およびその方法で得られた微粒子配置基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 静男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-402586
公開番号(公開出願番号):特開2005-161175
出願日: 2003年12月02日
公開日(公表日): 2005年06月23日
要約:
【課題】 各種光学用途などに有用な、表面に微粒子が、所定のパターンに規則的に配置した基板を、短時間で効率よく、かつ安定的に製造する方法を提供する。【解決手段】 微粒子と液状媒体を含む微粒子分散液中に、表面に溝を有する基板を傾斜させて、その一端を浸積させることにより、前記微粒子分散液を、前記基板の溝に沿って上昇させて溝内に満たしたのち、前記液状媒体を気化させて、前記溝に微粒子を配置する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
微粒子と液状媒体を含む微粒子分散液中に、表面に溝を有する基板を傾斜させて、その一端を浸積させることにより、前記微粒子分散液を、前記基板の溝に沿って上昇させて溝内に満たしたのち、前記液状媒体を気化させて、前記溝に微粒子を配置することを特徴とする微粒子配置基板の製造方法。
IPC (5件):
B05D1/18 ,  B01J19/00 ,  C01B33/148 ,  G02B6/12 ,  G02B6/13
FI (6件):
B05D1/18 ,  B01J19/00 K ,  C01B33/148 ,  G02B6/12 Z ,  G02B6/12 N ,  G02B6/12 M
Fターム (33件):
2H047KA02 ,  2H047PA01 ,  2H047PA26 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07 ,  2H047TA41 ,  4D075AB07 ,  4D075AB55 ,  4D075AB56 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB56Z ,  4D075BB60Z ,  4D075DC24 ,  4D075EA17 ,  4D075EA19 ,  4D075EC35 ,  4D075EC53 ,  4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072CC10 ,  4G072EE01 ,  4G072EE05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072PP15 ,  4G072UU01 ,  4G075AA24 ,  4G075BB02 ,  4G075BB08 ,  4G075BB10 ,  4G075CA02 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
  • 岩波 理化学辞典, 19980424, 第5版, 第1379頁
審査官引用 (2件)
  • 岩波 理化学辞典, 19980424, 第5版, 第1379頁
  • 岩波 理化学辞典, 19980424, 第5版, 第1379頁

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