特許
J-GLOBAL ID：200903006068474896
金属酸化物薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小倉 亘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246608
公開番号（公開出願番号）：特開平5-058604
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：
【要約】【目的】 両親媒性化合物が形成する分子集合体を反応場として利用し、分子レベルで構造制御された金属酸化物薄膜を得る。【構成】 分子の両端に極性基及び疎水基が付加された両親媒性化合物と金属酸化物ゾルとを含有する展開液を調製し、展開液を基板表面に展開した後、前記基板上に形成された液膜から溶媒を除去する。展開液は、金属酸化物ゾルの溶媒の種類に応じ水性又は非水性の溶媒で調製される。溶媒を除去した後の複合膜に対して熱的処理又は化学的処理を施し、両親媒性化合物を除去することができる。
請求項（抜粋）：
分子の両端に極性基及び疎水基が付加された両親媒性化合物と金属酸化物ゾルとを含有する展開液を調製し、該展開液を基板表面に展開した後、前記基板上に形成された液膜から溶媒を除去することを特徴とする金属酸化物薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C01B 13/14
, C01G 1/02
, C01G 23/04
, C04B 38/06
