特許

J-GLOBAL ID：200903006071880927

ハニカム構造体およびその調製方法、ならびにその構造体を用いたフィルムおよび細胞培養基材

発明者： 下村 政嗣 ,  西川 雄大 ,  望月 明 ,  田中 賢
出願人/特許権者： テルモ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-340568
公開番号（公開出願番号）：特開2001-157574
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：

【要約】【課題】細胞を培養するに当たっての基材及び/又は細胞が3次元組織体を形成するときの足場の提供。【解決手段】生分解性ポリマー(ポリ乳酸)が50-99%および両親媒性ポリマー(Cap)が50-1%からなるポリマーの疎水性有機溶媒溶液を、相対湿度50〜95%の大気下で基板上にキャストし、該有機溶媒を徐々に蒸散させると同時に該キャスト液表面で結露させ、該結露により生じた微小水滴を蒸発させる事で得られるハニカム構造体を用いたシートあるいは細胞培養基材。

請求項（抜粋）：

生分解性ポリマーが50-99w/w%および両親媒性ポリマーが50-1w/w%からなるポリマーの疎水性有機溶媒溶液を、相対湿度50〜95%の大気下で基板上にキャストし、該有機溶媒を徐々に蒸散させると同時に該キャスト液表面で結露させ、該結露により生じた微小水滴を蒸発させる事で得られるハニカム構造体。

IPC (4件)：

C12M 3/00 ,  C08J 9/00 ,  C12N 5/06 ,  C08L101/16

FI (4件)：

C12M 3/00 A ,  C08J 9/00 Z ,  C08L101/16 ,  C12N 5/00 E

Fターム (32件)：

4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029CC08 ,  4B029CC11 ,  4B065AA90X ,  4B065AC20 ,  4B065BB01 ,  4B065BC03 ,  4B065BC07 ,  4B065BC41 ,  4B065BC50 ,  4B065CA44 ,  4B065CA46 ,  4F074AA65 ,  4F074AA68 ,  4F074AA71 ,  4F074AA97 ,  4F074CB47 ,  4F074CC36W ,  4F074DA59 ,  4J002AA001 ,  4J002AA002 ,  4J002AB052 ,  4J002AD002 ,  4J002BG132 ,  4J002CF031 ,  4J002CF181 ,  4J002CF191 ,  4J002CG011 ,  4J002CH022 ,  4J002GB01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 生体吸収性重合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-232816   出願人：三井東圧化学株式会社
• 生分解性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-044343   出願人：信越化学工業株式会社
• 熱収縮性発泡複合シート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-020888   出願人：三井東圧化学株式会社
• 熱収縮性フイルム及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-109722   出願人：三菱レイヨン株式会社

引用文献：

審査官引用 (4件)

• "細胞培養におけるマイクロパターン化された接着面の効果"
• "Mesoscopic patterns of molecular aggregates on solid substrates."
• "Mesoscopic pattern formation of nanostructured polymer assemblies."
• "細胞接着リガンドをパターン化した細胞培養基板の作成"