特許
J-GLOBAL ID：200903006077402784
皮膚組織の非侵襲的治療のための装置及び方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-521417
公開番号（公開出願番号）：特表2009-544399
出願日： 2007年07月29日
公開日（公表日）： 2009年12月17日
要約：
【課題】皮膚にRF電磁エネルギーを伝達するための皮膚治療装置及びシステムを提供する。【解決手段】本願の装置は、1若しくは複数の電磁RF発生ユニットと、複数のRF電極グループと、複数のグループから選択された任意の選択されたRF電極グループまたは任意の選択されたRF電極グループの組み合わせを介して皮膚にRFエネルギーを制御可能に印加するためのコントローラとを含む。電極は、静止電極及び/または可動電極であり得る。異なるRF周波数及び/または周波数帯が用いられ得る。異なる時間に異なる電極グループを介してエネルギー印加を交互に切り替えること及び/または可動RF電極を用いることによって電極間距離及び構成を変更することで、電極の過加熱を減少させるかまたは防止し、皮膚内のRFエネルギー分布を制御し、装置の及び/または異なる皮膚治療用途のための使用を可能にし得る。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
皮膚組織の治療のための装置であって、
少なくとも1つのRF電磁エネルギー発生ユニットと、
皮膚にRF電磁エネルギーを印加するための前記少なくとも1つのRF電磁エネルギー発生ユニットに電気的に接続可能な複数の電極と、
前記装置の動作中に、前記複数の電極から制御可能に選択された少なくとも1つの電極グループへの前記少なくとも1つのRF電磁エネルギー発生ユニットによる電磁エネルギーの印加を制御するための、かつ前記選択された電極グループを制御可能に変更するための、前記少なくとも1つのRF電磁エネルギー発生ユニットに機能的に連携するように接続された少なくとも1つのコントローラユニットとを含むことを特徴とする装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4C053DD03
, 4C053DD08
, 4C053LL05
, 4C053LL13
