特許

J-GLOBAL ID：200903006085182440

光学素子成形用型

発明者： 葛西 広明
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-145952
公開番号（公開出願番号）：特開2002-338267
出願日： 2001年05月16日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、特に繰り返しの成形に伴う成形面の膜剥離の問題を改善し、耐久性に優れた光学素子の成形用型を提供する。【解決手段】 本発明の光学素子成形用型は、ガラス素材5を成形して所望の光学素子を得る光学素子成形用型において、前記光学素子成形用型を構成する型母材の少なくとも成形面1a、2aに、この成形面1a、2aから近い側から第1層としての厚さ100乃至500nmの範囲のクロム層3と、第2層としての窒素濃度10乃至50atm%の成形条件で形成した窒化クロム層4とを積層構造で備えたことを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

ガラス素材を成形して所望の光学素子を得る光学素子成形用型において、前記光学素子成形用型を構成する型母材の少なくとも成形面に、この成形面から近い側から第1層としての厚さ100乃至500nmの範囲のクロム層と、第2層としての窒素濃度10乃至50atm%の成形条件で形成した窒化クロム層とを積層構造で備えたことを特徴とする光学素子成形用型。

IPC (3件)：

C03B 11/00 ,  C03B 40/00 ,  G02B 3/00

FI (4件)：

C03B 11/00 M ,  C03B 11/00 N ,  C03B 40/00 ,  G02B 3/00 Z

Fターム (1件)：

4G015HA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-087423
  
• 特開昭62-192577