特許
J-GLOBAL ID：200903006085279215
基板洗浄装置および基板洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-350038
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189528
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：
【要約】【課題】 基板の品質および洗浄能力を向上する縦型基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 基板9を縦姿勢にて下方より上方へ搬送しながら洗浄・乾燥処理を施す基板洗浄装置の処理部2に、下方より第2仕切222、ブラシ201、純水噴射ノズル202、超音波洗浄ノズル203、第1仕切221、純水供給ノズル205、および、エアナイフ204を配置する。これにより、エアナイフ204による乾燥処理の直前に純水供給ノズル205により純水が供給されて乾燥ムラが防止される。また、純水供給ノズル205からの純水は超音波洗浄ノズル203に流れ込むことなく第1仕切221の上面を矢印F1、F2に沿って流れ、さらに、第2仕切222の上面を矢印F3、F4に沿って流れて領域Wにて洗浄前の基板9を予め湿らす。その結果、乾燥ムラを防止しつつ洗浄液の有効利用が可能となり、基板の品質および洗浄能力が向上される。
請求項（抜粋）：
主面の法線がほぼ水平方向を向くように縦姿勢に保持された基板に対して洗浄処理を施す基板洗浄装置であって、前記基板の前記主面を洗浄する洗浄手段と、前記洗浄手段の上方に設けられ、前記基板を乾燥する乾燥手段と、前記洗浄手段と前記乾燥手段との間に設けられ、前記基板の前記主面に純水を供給する純水供給手段と、前記洗浄手段、前記純水供給手段、および、前記乾燥手段に対して基板を相対的に移動させてこれら各手段を当該順序で通過させる搬送手段と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 351
, B08B 3/02
, B08B 3/08
, B08B 3/12
, B65G 49/07
H01L 21/304 351 C
, B08B 3/02 B
, B08B 3/08 Z
, B08B 3/12 A
, B65G 49/07 D
