特許
J-GLOBAL ID：200903006091478327
排気ガス還流装置
出願人/特許権者：
愛三工業株式会社
愛三工業株式会社 について
代理人 (1件)： 飯田 堅太郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-177514
公開番号（公開出願番号）：特開平9-032652
出願日： 1995年07月13日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：
【要約】【課題】 吸気絞り弁へのデポジットの付着を減少するとともに還流口周辺部の冷却を行って安定した作動性を保持することのできる排気ガス還流装置を提供すること。【解決手段】 絞り弁本体14に軸支されて吸気通路15を開閉可能な吸気絞り弁10と、排気ガス還流路に連通された還流口31を開閉可能に形成されるとともに還流口31が吸気絞り弁10下流の吸気通路15に突出開口された還流制御弁20と、を備えた排気ガス還流装置1Aにおいて、還流制御弁20の還流口31は、排気ガスの流れを吸気通路15の下流方向へ案内する通気フード35を備え、通気フード35と絞り弁本体14との間に吸気通路15に連通する空気通路40が形成されるとともに、空気通路40内に還流口31外周部が露出形成されてなることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
絞り弁本体に軸支されて吸気通路を開閉可能な吸気絞り弁と、排気ガス還流路に連通された還流口を開閉可能に形成されるとともに該還流口が前記吸気絞り弁下流の吸気通路に突出開口された還流制御弁と、を備えた排気ガス還流装置において、前記還流制御弁の還流口は、排気ガスの流れを前記吸気通路の下流方向へ案内する通気フードを備え、前記通気フードと前記絞り弁本体との間に前記吸気通路に連通する空気通路が形成されるとともに、前記空気通路内に前記還流口外周部が露出形成されてなる、ことを特徴とする排気ガス還流装置。
引用特許：
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