特許
J-GLOBAL ID：200903006098579943

フタロニトリル化合物、ジイミノイソインドリン化合物及びフタロシアニン近赤外吸収材料並びにそれらの製造方法

発明者：
戸村 辰也

戸村 辰也 について

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佐藤 勉

佐藤 勉 について

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笹 登

笹 登 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-214249
公開番号（公開出願番号）：特開平8-027161
出願日： 1994年08月16日
公開日（公表日）： 1996年01月30日
要約：
【要約】【構成】 フタロシアニン骨格のベンゼン環に-OR1SiR2R3R4置換基を導入してなるフタロシアニン近赤外吸収材料、その中間体である同置換基を有するフタロニトリル化合物とジイミノイソインドリン化合物並びにそれらの製造方法。【効果】 本発明のフタロシアニン近赤外吸収材料は、良好な安定性を保持しながら、種々の有機溶媒に可溶なものとなり、しかも高い近赤外線吸収能を持っている。その結果、溶剤塗工法による塗膜形成が可能となり、利用形態が非常に拡大され、光記録媒体用としても有用である。また、本近赤外吸収材料は、本発明の中間体から、温和な条件で容易に製造することができる。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)で示されるフタロニトリル化合物。【化1】(式中、R1〜R4はそれぞれ以下のものを表わす。R1: 炭素数1〜8の直鎖又は分岐アルキレン基で、基中に-C-O-C-のいわゆるエーテル結合を含んでいてもよいし、シリル基で置換されていてもよい、R2〜R4:それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜3のアルコキシ基、ビニル基、又は-OSi(R5)3基若しくは-CH2Si(R5)3基、R5:炭素数1〜3のアルキル基。)
IPC (6件)：
C07F 7/10 ,  C07D487/22 ,  C09B 47/067 ,  C09B 47/073 ,  C09B 47/18 ,  C09K 3/00 105
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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