自動外観検査装置およびそれを用いた検査方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-066580
公開番号（公開出願番号）：特開平6-281409
出願日： 1993年03月25日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：

【要約】【目的】半導体ウェーハの自動外観チェックにおいて、欠陥検出精度を向上させる。【構成】表面に多層に膜形成された半導体ウェーハ17表面を複数のフォーカスオフセットをかけ、各層を独立したフォーカス位置15,16により検査する。【効果】各層をその層に合ったフォーカスで検査するため、欠陥の見落としがなくなる。

請求項（抜粋）：

外観検査の為の画像処理装置が接がる顕微鏡と、その顕微鏡と被観察物との距離を自動に調節するオートフォーカス手段と、前記オートフォーカス点を基準にして任意量だけ顕微鏡と被観察物との距離をずらせた点を観察するフォーカスオフセット設定機能とを有する自動外観検査装置において、前記フォーカスオフセットを多段に設定可能とし、自動に切り換えるよう構成した自動外観検査装置。

IPC (4件)：

G01B 11/00 , G01B 9/04 , G02B 7/28 , H01L 21/66

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