特許
J-GLOBAL ID:200903006102376718
電気回路の形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後呂 和男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-204669
公開番号(公開出願番号):特開2003-023231
出願日: 2001年07月05日
公開日(公表日): 2003年01月24日
要約:
【要約】【課題】 容易な電気回路の形成方法を提供する。【解決手段】 ナノ(nm)スケールの金属微粒子をフッ素系媒質に分散させた分散液中に上下動可能なテーブル21を配置し、そのテーブル21上を覆う分散液に二酸化炭素レーザー光を照射しつつテーブル21を下降させて金属微粒子相互間を金属結合させることにより、電気回路体12を形成する。
請求項(抜粋):
金属微粒子を媒質に分散させた分散液又は分散ペーストにレーザー光を照射して前記金属微粒子相互間を金属結合させることにより電気回路体を形成することを特徴とする電気回路の形成方法。
IPC (3件):
H05K 3/10
, H01L 23/12
, H05K 3/00
FI (3件):
H05K 3/10 C
, H05K 3/00 W
, H01L 23/12 N
Fターム (9件):
5E343AA01
, 5E343AA12
, 5E343BB15
, 5E343BB22
, 5E343BB71
, 5E343DD69
, 5E343ER35
, 5E343ER60
, 5E343GG11
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭62-086891
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特開昭61-279194
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特開平2-117194
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