特許

J-GLOBAL ID：200903006102907195

多層配線板の製造方法

発明者： 岩佐 山大 ,  大場 洋一 ,  内田 智行
出願人/特許権者： 株式会社アサヒ化学研究所
代理人 (1件)： 久米 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-309558
公開番号（公開出願番号）：特開平11-126973
出願日： 1997年10月24日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、従来、非常に多くの工程を必要とし、材料コストが上がる問題点を解決し、高い信頼性と優れた作業性の多層配線板の製造方法を提供することにある。【解決手段】 (1)基板上に導体回路を形成する工程、(2)基板の導体上に、導電性高分子厚膜ペーストを用いて柱状導電体を形成する工程、(3)柱状導電体の周辺を絶縁層で被覆する工程、(4)絶縁層によって埋没した柱状導電体の頭部をレーザー照射によって露出させる工程、および(5)表面に導体を形成する工程からなる多層配線板の製造方法。

請求項（抜粋）：

導体回路と絶縁層とが多層に積層されてなり、ヴィアホールによって回路間の導通をうる多層配線板の製造方法において、(1)基板上に導体回路を形成する工程、(2)基板の導体上に、導電性高分子厚膜ペーストを用いて柱状導電体を形成する工程、(3)柱状導電体の周辺を絶縁層で被覆する工程、(4)絶縁層によって埋没した柱状導電体の頭部をレーザー照射によって露出させる工程、および(5)表面に導体を形成する工程、からなることを特徴とする多層基板の製造方法。

IPC (2件)：

H05K 3/46 ,  H05K 3/40

FI (5件)：

H05K 3/46 N ,  H05K 3/46 B ,  H05K 3/46 S ,  H05K 3/46 X ,  H05K 3/40 Z