特許
J-GLOBAL ID:200903006103422675

複合酸化物超電導薄膜の成膜方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 越場 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-211504
公開番号(公開出願番号):特開平5-032493
出願日: 1991年07月29日
公開日(公表日): 1993年02月09日
要約:
【要約】【目的】 レーザ蒸着法により、膜特性の優れた複合酸化物超電導薄膜を成膜する方法を提供する。【構成】 使用するターゲットを裏面から積極的に冷却しながら成膜処理を行う。
請求項(抜粋):
レーザ蒸着法により酸化物超電導薄膜を成膜する方法において、使用するターゲットを裏面より積極的に冷却しながら成膜処理を行うことを特徴とする複合酸化物超電導薄膜の成膜方法。
IPC (7件):
C30B 29/22 501 ,  C23C 14/34 ,  H01B 13/00 565 ,  H01L 21/203 ,  H01L 39/24 ZAA ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01L 21/268

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