特許
J-GLOBAL ID:200903006106218556
多孔質炭素材料の製造方法、多孔質炭素材料およびこれを用いた電気二重層キャパシタ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
渡辺 望稔 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-118085
公開番号(公開出願番号):特開2001-302225
出願日: 2000年04月19日
公開日(公表日): 2001年10月31日
要約:
【要約】【課題】低コストで工程化が容易な酸化性ガス賦活法により、比表面積の大きい多孔質炭素材料を歩留まりよく製造すること。【解決手段】ソフトカーボン系炭素材料に、酸素の存在下、賦活温度よりも低い温度で加熱する前処理を施した後、酸化性ガスで賦活して多孔質炭素材料を製造する。前処理は、200〜500°Cの温度で行うことが好ましい。比表面積が1000m2 /g以上である多孔質炭素材料も得られ、静電容量の大きい電気二重層キャパシタ用電極材料となる。
請求項(抜粋):
ソフトカーボン系炭素材料に、酸素の存在下、賦活温度よりも低い温度で加熱する前処理を施した後、酸化性ガスで賦活する多孔質炭素材料の製造方法。
IPC (4件):
C01B 31/10
, H01G 9/058
, H01M 4/58
, H01M 4/02
FI (4件):
C01B 31/10
, H01M 4/58
, H01M 4/02 D
, H01G 9/00 301 A
Fターム (14件):
4G046HA05
, 4G046HA07
, 4G046HC09
, 4G046HC11
, 4G046HC14
, 5H050AA08
, 5H050BA16
, 5H050CB09
, 5H050FA17
, 5H050GA02
, 5H050GA14
, 5H050GA27
, 5H050HA07
, 5H050HA14
引用特許: