特許

J-GLOBAL ID：200903006110150087

平面型薄膜磁気ヘツドの製法

発明者： 大土井 雄三
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-186052
公開番号（公開出願番号）：特開平5-028431
出願日： 1991年07月25日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】 高精度な寸法精度を有し、耐摩耗性にすぐれた磁気ギャップを有する平面型薄膜磁気ヘッドの製法を提供する。【構成】 基板上に第1の磁気ギャップ材を用いて仮の磁気ギャップを形成する工程と、第1の磁気ギャップ材の両側に磁気コアを形成する工程と、第1の磁気ギャップ材を除去し、該除去された空間部に第2の磁気ギャップ材を充填して真の磁気ギャップを形成する工程を含み、他は従来と同様の工程により形成するものである。

請求項（抜粋）：

基板面にほぼ垂直に磁気ギャップを形成した平面型薄膜磁気ヘッドの製法であって、基板上に第1の磁気ギャップ材を用いて仮の磁気ギャップを形成する工程と、前記第1の磁気ギャップ材の両側に磁気コアを形成する工程と、前記第1の磁気ギャップ材を除去し、該除去された空間部に第2の磁気ギャップ材を充填して真の磁気ギャップを形成する工程を含むことを特徴とする平面型薄膜磁気ヘッドの製法。