半導体露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-197164
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045828
出願日： 1994年08月01日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】作業者が容易に処理終了予測時間および時刻を把握できるようにし、もって露光装置を効率的に運用することができるようにする。【構成】露光処理を行なう1ロットのウエハの枚数を指定する枚数指定手段7-3と、前記露光処理の各部分的処理に要する処理時間の情報を設定する設定手段7と、前記指定手段により指定されたウエハ枚数および前記設定手段により設定された処理時間情報に基づいて前記1ロットの露光処理に要する時間もしくはその処理の終了時刻を算出する算出手段7-1と、これによって算出された値を表示する表示手段7-3とを具備することを特徴とする半導体露光装置。

請求項（抜粋）：

露光処理を行なう1ロットのウエハの枚数を指定する枚数指定手段と、前記露光処理の各部分的処理に要する処理時間の情報を設定する設定手段と、前記指定手段により指定されたウエハ枚数および前記設定手段により設定された処理時間情報に基づいて前記1ロットの露光処理に要する時間もしくはその処理の終了時刻を算出する算出手段と、これによって算出された値を表示する表示手段とを具備することを特徴とする半導体露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 Z , H01L 21/30 502 G

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-346106
特開平2-230711
特開平4-127414

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