特許
J-GLOBAL ID：200903006118942799
表面形状を測定する干渉計測方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野河 信太郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-510284
公開番号（公開出願番号）：特表平9-503065
出願日： 1994年07月25日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：
【要約】表面形状計測干渉計を用いる時生起する、反射における組成依存位相変化を計測するための非接触的方法。拡張狭帯域幅照明光源を利用する表面形状計測干渉顕微鏡(10)が検出器アレイ(30)上の所与の場位置において2ビームの干渉強度パターンを生成するために用いられる。表面特性が既知の参照表面(24)と、測定する未知の試験表面(32)を軸方向に相対的に平行移動し、検出器アレイ(30)の上に投射される干渉強度パターンを標本化し、ディジタル化し記憶して、ディジタル化2ビーム干渉強度パターンを形成するために利用され、その形状はその干渉計配置に特有のものである。
請求項（抜粋）：
未知の形状と組成の試験表面を測定する非接触方法において試験表面からの照明ビームの反射によって反射光の組成依存による位相変化を測定する方法であって、(a)拡張された狭帯域幅光源から第1照明ビームと第2照明ビームを生成する工程と、(b)未知の形状と組成を有する参照表面上の少なくとも一点からの第1照明ビームの反射により形成される第1波面と未知の形状と組成を有する試験表面上の対応する点からの第2照明ビームの反射によって形成される第2波面との間の干渉によって生じる強度を有する撮像ビームを検出器上に生成する工程と、(c)ある一定の線型移動範囲にわたって参照表面と試験表面の一方を他の表面に対して移動することにより第1波面と第2波面の一方を他の波面に対して平行移動し、それによって撮像ビーム強度を変化させ、検出器上に時間的に変化する干渉強度パターンを生成する工程と、(d)検出器上における干渉強度パターンの最大干渉コントラストの点での干渉強度パターン位相を計算して、試験表面からの第2照明ビームの反射によって反射光の組成依存による位相変化に比例する値を得る工程と、(e)表面からの反射による位相変化をその表面の照明入射の角度θと関係づけかつ照明入射のゼロ角度に正規化された関数Φ(θ)を定義する方程式を用いて計算された理想的データに、関係式(1-κNA2ρ2)(ここでρは0から1まで変わる定数であり、NAは拡張された狭帯域幅光源が通過する干渉計物体鏡の実効開口数である)を当てはめて曲線近似することにより定数κを計算する工程と、(f)その値を1-2κで除算して、試験表面からの第2照明ビームの反射により形成された反射による位相変化を求める工程と、を備えてなる反射光の組成依存による位相変化を測定する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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