投影露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-252387
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086152
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】投影光学系の他の光学素子ユニットに影響を及ぼすことなく、所望の光学素子ユニットのみを光学調整することのできる投影露光装置を提供することを目的とする。【構成】本発明の投影露光装置は、パターンが形成されたマスクを所定波長域の照明光で照明して、前記パターンの像を投影光学系を介して被投影基板上に結像させる投影露光装置において、前記投影光学系は、それぞれ1枚以上の光学素子を収容した複数の鏡筒ユニットを備え、前記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光学系に着脱自在に取り付けられるように構成されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたマスクを所定波長域の照明光で照明して、前記パターンの像を投影光学系を介して被投影基板上に結像させる投影露光装置において、前記投影光学系は、それぞれ1枚以上の光学素子を収容した複数の鏡筒ユニットを備え、前記鏡筒ユニットの各々は、前記投影光学系に着脱自在に取り付けられるように構成されていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 , G02B 7/02 , G02B 27/18 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521 , G03G 15/04 111

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭63-202707
特開平4-208514
特開平3-155512

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