特許

J-GLOBAL ID：200903006132878360

多層光学薄膜の製造方法

発明者： 藤村 秀彦 ,  大谷 実 ,  石倉 淳理 ,  沢村 光治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-053028
公開番号（公開出願番号）：特開平6-240446
出願日： 1993年02月18日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：

【要約】【目的】 フッ化物からなる多層光学薄膜の密着力や充填率を向上させ、波長シフトを抑制する。【構成】 3×10-4Pa以下の真空槽内において、直径30mm、厚さ1mmのBK7からなる基板101上に、クラスターイオンビーム法により順次LaF3 膜102、BiF2 膜103、MgF2 膜104を成膜した。各膜の成膜条件は次のとおりである。LaF3 膜102は、加速電圧350V、イオン化電流300mA,蒸着速度1.2nm/sec、光学膜厚nd=85.9nmとし、BiF2 膜103は、加速電圧400V、イオン化電流200mA、蒸着速度1.0nm/sec、光学膜厚nd=212.6とし、MgF2 膜104は、加速電圧200V、イオン化電流300mA、蒸着速度1.5nm/sec、光学膜厚nd=123.4nmとした。ただし、nはλ=500nmである。

請求項（抜粋）：

異種のフッ化物からなる多層膜を基板に蒸着する多層光学薄膜の製造方法であって、真空槽に設けられた複数のクラスターイオンビーム発生源より順次異種のフッ化物のクラスターイオンビームを発生させて前記基板に蒸着することを特徴とする多層光学薄膜の製造方法。

IPC (5件)：

C23C 14/32 ,  C23C 14/06 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/30