特許

J-GLOBAL ID：200903006135175564

磁気ディスク用基板の製造方法

発明者： 土肥 俊郎 ,  宮入 広雄 ,  佐藤 仁宣
出願人/特許権者： 三菱アルミニウム株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-330697
公開番号（公開出願番号）：特開2001-148116
出願日： 1999年11月19日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：

【要約】【課題】 高記録密度、大容量に適した表面性状を有する磁気ディスク用基板を提供する。【解決手段】 Ni-Pメッキ後の粗研磨工程において、硬度:80〜100度、圧縮率:0〜8%、圧縮弾性率:50〜90%、密度:0.5〜0.8g/cm3 の研磨布を使用して研磨する。研磨後の磁気ディスク用基板は、うねり:1.0nm以下、微小うねり:1.5nm以下、ダブオフ:150nm以下、ロールオフ:12nm以下の平坦性に優れた表面性状を有する高記録密度、大容量に適した磁気ディスク用基板となる。

請求項（抜粋）：

非磁性基板上にNi-Pメッキを施した基板を、硬度:80〜100度、圧縮率:0〜8%、圧縮弾性率:50〜90%、密度:0.5〜0.8g/cm3 の研磨布を使用して研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/73

FI (4件)：

G11B 5/84 A ,  B24B 37/00 C ,  B24B 37/00 A ,  G11B 5/73

Fターム (20件)：

3C058AA09 ,  3C058AA19 ,  3C058BA02 ,  3C058BA04 ,  3C058BA05 ,  3C058CA01 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  5D006CB04 ,  5D006CB08 ,  5D006DA03 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112GA09 ,  5D112GA13 ,  5D112GA14