特許
J-GLOBAL ID：200903006138646096
フオトレジストパターン直接描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三品 岩男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-246147
公開番号（公開出願番号）：特開平5-080524
出願日： 1991年09月25日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：
【要約】【目的】小型で、安価なフォトレジストパターン直接描画装置を提供する。【構成】フォトレジスト付きの基板を載せるための基板載せ台と、前記フォトレジストを露光するための、アレイ状に配置した端面発光型EL素子を有する露光光源と、前記基板と前記露光光源とを相対的に移動させるための駆動部とを有することを特徴とするフォトレジストパターン直接描画装置。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト付きの基板を載せるための基板載せ台と、前記フォトレジストを露光するための、アレイ状に配置した端面発光型EL素子を有する露光光源と、前記基板と前記露光光源とを相対的に移動させるための駆動部とを有することを特徴とするフォトレジストパターン直接描画装置。
IPC (3件)：
G03F 7/20 501
, H05B 33/00
, H05K 3/00
