特許

J-GLOBAL ID：200903006175517522

金属微粒子分散非晶質薄膜の製造方法

発明者： 真鍋 由雄 ,  吉田 勝 ,  棚橋 一郎 ,  三露 常男
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-169860
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019319
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、金属微粒子を非晶質薄膜中に多量にドープした非線形光学材料を高速堆積できる製造方法を提供することを目的とする。【構成】 非晶質薄膜を形成する手段と金属微粒子を形成する手段とを交互に行なう製造方法において、非晶質薄膜を形成する手段として、SiO2ターゲット2をアルゴンガスでスパッタして形成する。その後に、金属微粒子を形成する手段として、有機金属錯体を製造装置1に供給し、水素プラズマ発生用のECRプラズマ発生器3を有機金属錯体に照射することによって金属微粒子を形成する。この工程を繰り返し製造した金属微粒子分散非晶質薄膜中のAuのド-プ量は5原子%で、粒子径は5〜9nmであった。

請求項（抜粋）：

水素プラズマを有機金属錯体に照射し金属微粒子を形成する工程と、非晶質薄膜を形成する工程とを交互に行うことを特徴とする金属微粒子分散非晶質薄膜の製造方法。