特許
J-GLOBAL ID：200903006178285886
パタン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-040373
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239861
出願日： 1997年02月25日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】ハーフトーン位相シフトマスクを用いた場合のサイドピークによる不要転写パタン部のレジスト膜減りを埋戻す。【解決手段】現像後の熱処理により、サイドピークに該るパタン部のみの感光材料を軟化流動させることにより、レジストの膜厚が薄くなった部分の膜厚を選択的に厚くする。
請求項（抜粋）：
少なくともホトマスクを用いて材料上の感光材料にパタンを露光する工程と、露光したパタンを現像する工程を有するパタン形成方法において、基板上の感光材料に被加工材料が露出しているパタンを形成すると同時に、被加工材料が露出していないパタンを形成し、前記露光後に行う現像後に前記感光材料を有する基板を加熱処理することにより、前記被加工材料が露出していないパタン部分の感光材料を選択的に軟化流動させることを特徴とするパタン形成方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 7/40
, H01L 21/30 528
, H01L 21/30 571
