特許
J-GLOBAL ID:200903006198327895
有害ガスの浄化剤
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-104077
公開番号(公開出願番号):特開平9-267027
出願日: 1996年03月29日
公開日(公表日): 1997年10月14日
要約:
【要約】【課題】 半導体製造プロセスから排出される排ガスなどに含まれるふっ素、塩素、六ふっ化タングステンなどのハロゲン系ガスを効率よく除去しうる浄化剤を開発する。【解決手段】 二酸化マンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物を主成分とした浄化剤とする。
請求項(抜粋):
有害なハロゲン系ガスを含むガスから、該ハロゲン系ガスを除去するための浄化剤であって、二酸化マンガン、水酸化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物の3成分を主成分とすることを特徴とする有害ガスの浄化剤。
IPC (2件):
B01D 53/68
, B01D 53/34 ZAB
FI (2件):
B01D 53/34 134 Z
, B01D 53/34 ZAB
引用特許:
審査官引用 (13件)
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特開平3-202128
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有害ガスの浄化剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-119570
出願人:日本パイオニクス株式会社
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特開昭61-061618
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特開昭63-080830
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特開昭58-017822
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特開昭62-152519
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特開昭63-283745
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特開平3-202128
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特開昭61-061618
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特開昭63-080830
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特開昭58-017822
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特開昭62-152519
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特開昭63-283745
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