特許
J-GLOBAL ID：200903006203277036
真空処理装置、静電チャックの診断方法及び記憶媒体
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-218772
公開番号（公開出願番号）：特開2008-047564
出願日： 2006年08月10日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】基板に対する真空処理の運用等において静電チャックの使用開始の前に、誘電体層の絶縁状態を診断することが可能な真空処理装置等を提供する。【解決手段】ガラス基板G等を吸着保持するための溶射タイプの静電チャック22において、高圧直流電源67は静電チャック22のチャック電極24に、ガラス基板Gを吸着保持する場合よりも低い直流電圧である診断電圧を印加し、各測定器70、71は測定位置における電気的特性(電圧や電流)の測定データを取得する。そして、診断部としての役割を果たす制御部80は、上述の電気的特性の測定データと夫々の電気的特性について予め定められた設定データ(しきい値)とを比較して、この静電チャック22が使用可能な状態となっているか否かを診断する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
真空容器内の載置台に設けられた静電チャックに基板を載置し、チャック電極にチャック電圧を印加して基板を静電チャックに静電吸着させ、基板に対して処理を行う真空処理装置において、
前記チャック電極に、真空処理時におけるチャック電圧よりも低い診断電圧を印加するための電源と、
前記チャック電極に診断電圧を印加したときに静電チャックの電気的特性を測定し、その測定データを取得するための測定部と、
この測定部を介して取得した前記測定データと予め設定した設定データとに基づいて、前記静電チャックの使用が可能か否かを診断する診断部と、を備えたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/68 R
, H02N13/00 D
5F031CA05
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA16
, 5F031HA35
, 5F031HA38
, 5F031HA39
, 5F031JA01
, 5F031JA21
, 5F031JA45
, 5F031MA32
, 5F031PA08
, 5F031PA09
