特許

J-GLOBAL ID：200903006204788859

改質基材およびその製造方法

発明者： 高橋 博 ,  菅谷 博之
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-074029
公開番号（公開出願番号）：特開2006-291193
出願日： 2006年03月17日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】 放射線に不安定な化合物を基材表面に放射線照射により導入する基材の表面改質において、放射線による該化合物の変性を大幅に低減することができる表面改質方法と、その表面改質方法で得られた改質基材を提供する。【解決手段】 有機溶媒の存在下で、放射線に対して不安定な化合物を接触させた基材が放射線照射されてなることを特徴とする改質基材であり、前記の基材としては中空糸膜等の分離膜が用いられ、前記の化合物としてはアミノ酸を構成要素とする化合物、なかでも血液抗凝固活性を有する化合物が好適に用いられる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

有機溶媒の存在下で、放射線に対して不安定な化合物を接触させた基材が放射線照射されてなることを特徴とする改質基材。

IPC (5件)：

C08F 2/54 ,  A61M 25/00 ,  A61J 1/10 ,  B01D 67/00 ,  B01D 69/08

FI (5件)：

C08F2/54 ,  A61M25/00 304 ,  A61J1/00 330B ,  B01D67/00 500 ,  B01D69/08

Fターム (54件)：

4C077AA05 ,  4C077AA07 ,  4C077BB01 ,  4C077BB02 ,  4C077BB03 ,  4C077CC06 ,  4C077KK04 ,  4C077LL02 ,  4C077LL05 ,  4C077LL30 ,  4C081AB32 ,  4C081AB35 ,  4C081BA02 ,  4C081BA15 ,  4C081CA021 ,  4C081CA031 ,  4C081CA041 ,  4C081CA081 ,  4C081CA091 ,  4C081CA201 ,  4C081CA211 ,  4C081CC03 ,  4C081CD021 ,  4C081CD19 ,  4C081DA04 ,  4C081DC03 ,  4C081EA14 ,  4C167AA01 ,  4C167BB43 ,  4C167CC29 ,  4C167FF01 ,  4C167GG42 ,  4C167HH08 ,  4D006GA13 ,  4D006HA01 ,  4D006KE06P ,  4D006LA06 ,  4D006MA01 ,  4D006MC37X ,  4D006MC40X ,  4D006MC62X ,  4D006NA21 ,  4D006NA27 ,  4D006NA42 ,  4D006PA01 ,  4D006PB09 ,  4D006PB70 ,  4D006PC47 ,  4J011CA01 ,  4J011CC07 ,  4J011CC10 ,  4J011VA01 ,  4J011WA09 ,  4J011WA10

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第2754203号公報
  
• 親水化膜およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-110911   出願人：東レ株式会社
• 国際特許公開97/027878号パンフレット