特許
J-GLOBAL ID：200903006207915762

処理液塗布装置

発明者：
大塚 慶崇

大塚 慶崇 について

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宮崎 一仁

宮崎 一仁 について

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高木 貴生

高木 貴生 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-293009
公開番号（公開出願番号）：特開2006-102642
出願日： 2004年10月05日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】基板上の異物もしくは基板の一部が異物により盛り上がり状態になされた異常状態を検出する光学的な検出手段を具備した処理液塗布装置において、光の回析等により生ずる誤検出を低減させる。【解決手段】基板1の幅方向に延びるスリット状吐出開口11bを有する処理液供給ノズル11とを相対的に移動させて基板1の表面に塗布する装置で、処理液供給ノズル11の移動方向の前方に投光部3と受光部4が配置され、前記投光部3と受光部4を結ぶ光ビームの直進路5の上部を覆う光軸誘導体13が具備され、この光軸誘導体13は基板1との間でトンネル状の狭い直線状の空間を形成する。これにより、前記光軸誘導体13は投光部3から受光部4を結ぶ直進路を通る光ビーム5を対象とした光透過形センサを構成し、光の回析により投光部3から受光部4を結ぶ直進路を迂回して受光部に至る光を効果的に減衰させることで、誤検出の発生を効果的に防止する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ステージ上に水平状態に載置される被処理基板と、前記基板の幅方向に延びるスリット状吐出開口を有する処理液供給ノズルとを相対的に移動して、前記処理液供給ノズルのスリット状吐出開口から帯状に吐出される処理液を前記基板の表面に塗布する処理液塗布装置であって、 前記被処理基板に対して相対移動する処理液供給ノズルの移動方向の前方に配置され、前記処理液供給ノズルにおけるスリット状吐出開口の長手方向に平行するように、かつ前記基板の直近に沿って光ビームを投射する投光部と、この光ビームを受光する受光部と、前記投光部と受光部を結ぶ光ビームの直進路の少なくとも上部を覆う光軸誘導体とを具備したことを特徴とする処理液塗布装置。
IPC (3件)：
B05C 11/00 ,  B05C 5/02 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
B05C11/00 ,  B05C5/02 ,  H01L21/30 564Z
Fターム (8件)：
4F041AA05 ,  4F041CA02 ,  4F041CA18 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042BA27 ,  4F042DH09 ,  5F046JA27
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (2件)

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