特許

J-GLOBAL ID：200903006213913534

プラズマ溶射方法

発明者： 文屋 明 ,  薬真寺 和八 ,  深見 慎二
出願人/特許権者： 小野田セメント株式会社
代理人 (1件)： 斎藤 侑 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-147625
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339699
出願日： 1992年06月08日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：

【要約】【目的】 プラズマトーチから噴出するプラズマフレーム中に混在する溶射材料の液滴の温度を高温化すると共にその流速を高速化して緻密な溶射膜を形成する。【構成】 複トーチ型プラズマ溶射装置の陰極と陽極間に発生するアークに二酸化炭素を供給してプラズマフレームを形成し、該プラズマフレームに粉末状の溶射材料を供給して、そのプラズマフレームと共に流動し、その間に溶融して高温化すると共に高速化して溶射母材に衝突させる。

請求項（抜粋）：

プラズマ溶射トーチのプラズマガスとして二酸化炭素、酸素又は空気を用いることを特徴とするプラズマ溶射方法。