特許

J-GLOBAL ID：200903006214140261

露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 萩原 恒幸 ,  田代 英之
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-297798
公開番号（公開出願番号）：特開2001-168024
出願日： 2000年09月29日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】 露光時のデフォーカスに起因する色ムラの発生を防止しかつスループットを極力高く維持する。【解決手段】 選択装置93では、第1の選択基準が設定されている場合、ウエハWのピッチングとローリングを制御するための複数の検出点を選択し、また第2の選択基準が設定されている場合、ウエハWのローリングを優先して制御するための複数の検出点を選択する。そして、走査露光の際には、それぞれの選択基準に従って、制御装置20により、ウエハのZ位置、ピッチング、ローリング又はウエハのZ位置、ローリングが調整される。従って、デフォーカスに対する影響が大きい、ウエハ表面のZ位置とローリングとを精度良く調整してデフォーカスに起因する色ムラの発生を防止でき、また、周辺のショットの露光の際にもいわゆる完全交互スキャンを行うことにより、スループットを極力高く維持することができる。

請求項（抜粋）：

照明光によりパターンが形成されたマスクを照明した状態で前記マスクと基板とを投影光学系に対して相対走査して、前記パターンを投影光学系を介して前記基板上の少なくとも1つのショット領域に転写する露光装置であって、複数の検出点における前記基板表面の前記投影光学系の光軸方向の位置情報を検出するフォーカス検出系と;前記相対走査中に前記基板が移動する第1方向及びこれに直交する第2方向の前記基板の傾斜を制御するための第1のタイプの検出点の選択基準と、前記基板の前記第2方向の傾斜を優先して制御するための第2のタイプの検出点の選択基準とが、設定可能であり、前記複数の検出点の内、設定された選択基準に基づき、複数の検出点を選択する選択装置と;前記選択された検出点における前記基板表面の前記投影光学系の光軸方向に関する位置の情報に基づいて前記照明領域内の前記基板表面と前記投影光学系の像面との位置関係を調整するために、前記基板の前記光軸方向の位置及び前記光軸に直交する面に対する傾斜を制御する基板駆動装置と;を備える露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22

FI (6件)：

G01B 11/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 526 B ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 518