特許
J-GLOBAL ID：200903006214259897
直接描画用フイルムレジスト及びそのフイルムレジストを用いたエツチング加工法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-236942
公開番号（公開出願番号）：特開平5-053319
出願日： 1991年08月23日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】 高解像度で、酸素による感光性の低下がなく、直接描画法による微細画像パターン形成能に優れたフイルムレジスト及びそのフイルムレジストを用いたエツチング加工法を提供する。【構成】 支持フイルム上に、現像液に可溶であり、酸素遮断性を有し且つ常温で実質的に粘着性のない膜厚1〜5μmの非感光性被膜層を形成し、さらに該非感光性被膜層上に、常温で粘着性のある感光性被膜層を形成した直接描画用フイルムレジスト、及びそのフイルムレジストを用いたエツチング加工法。
請求項（抜粋）：
支持フイルム上に形成された、現像液に可溶であり、酸素遮断性を有し且つ常温で実質的に粘着性のない膜厚1〜5μmの非感光性被膜層と、該非感光性被膜層上に設けられた、常温で粘着性のある感光性被膜層から成ることを特徴とする直接描画用フイルムレジスト。
IPC (3件)：
G03F 7/11 501
, G03F 7/004 512
, H05K 3/06
