特許

J-GLOBAL ID：200903006217561101

固体コンデンサの製造方法

発明者： 佐藤 玲司 ,  工藤 栄一
出願人/特許権者： 日通工株式会社
代理人 (1件)： 熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-326161
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154639
出願日： 1996年11月21日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 安定した高圧定格固体コンデンサの製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも金属基体の表面に形成した誘電体酸化皮膜層をリンタングステン酸、モリブデン酸、リンモリブデン酸、又はその塩の1種又は複数種を含む表面処理水溶液中に浸漬し、該誘電体酸化皮膜層の表面処理する工程と、該表面処理した誘電体酸化皮膜層を形成した部分をボロジサリチル酸テトラエチルアンモニウム、ボロジサリチル酸アンモニウム及びピロールを含む水溶液中に浸漬し、金属基体を陽極、対向電極を陰極として、所定の電圧・電流を印加し、電解酸化重合により、該誘電体酸化皮膜層上に導電性機能高分子膜層を形成する工程と、導電性機能高分子膜層上に導電体層を形成してコンデンサ素子とする工程とを経て固体コンデンサを製造する。

請求項（抜粋）：

少なくとも下記工程を経て固体コンデンサを製造することを特徴とする固定コンデンサの製造方法。金属基体の表面に誘電体酸化皮膜層を形成する工程、前記誘電体酸化皮膜層を形成した後、該誘電体酸化皮膜層を形成した部分を、リンタングステン酸、モリブデン酸、リンモリブデン酸、又はその塩の1種又は複数種を含む表面処理水溶液中に浸漬し、該誘電体酸化皮膜層を表面処理する工程、前記表面処理した後、該表面処理した誘電体酸化皮膜層を形成した部分をボロジサリチル酸テトラエチルアンモニウム、ボロジサリチル酸アンモニウム、及びピロールを含む水溶液中に浸漬し、前記金属基体を陽極、対向電極を陰極として、所定の電圧・電流を印加し、電解酸化重合により、該誘電体酸化皮膜層上に導電性機能高分子膜層を形成する工程、前記導電性機能高分子膜層を形成後、該導電性機能高分子膜層上に導電体層を形成してコンデンサ素子とする工程。

IPC (2件)：

H01G 9/028 ,  H01G 9/04 301

FI (2件)：

H01G 9/02 331 H ,  H01G 9/04 301