特許
J-GLOBAL ID：200903006233085360
高分子電解質およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-256982
公開番号（公開出願番号）：特開平10-101731
出願日： 1996年09月27日
公開日（公表日）： 1998年04月21日
要約：
【要約】【課題】 ゲル化することなく、十分に水溶性を示す高分子電解質を提供する。また、その好適な製造方法を提供する。【解決手段】 スチレンと共役ジエンとの共重合体にイオン基を導入することにより水溶性の高分子電解質を製造する。イオン基は、スルホン酸、スルホン酸塩、クロロメチル化アミン塩より選ばれる少なくともいずれかであって好適である。ポリスチレン系樹脂における共役ジエンユニットの含有率は、0.1〜20モル%、望ましくは0.2〜10モル%とされて好適である。また、経時安定性を向上させる目的で、反応系内にカーボンブラックに代表される無機顔料を存在させるようにしてもよい。
請求項（抜粋）：
スチレンと共役ジエンとの共重合体にイオン基が導入されてなり、水溶性を示すことを特徴とする高分子電解質。
IPC (5件)：
C08F 8/36
, C08F 8/24
, C08K 3/00
, C08K 3/04
, C08L 25/18
C08F 8/36
, C08F 8/24
, C08K 3/00
, C08K 3/04
, C08L 25/18
