特許
J-GLOBAL ID：200903006234162903
塗布方法および塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡部 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-134853
公開番号（公開出願番号）：特開平7-313915
出願日： 1994年05月26日
公開日（公表日）： 1995年12月05日
要約：
【要約】【目的】 より信頼性の高い加水分解状態を確保し、かつ、塗布液の安定性を維持する塗布方法およびそのために使用する塗布装置を提供する。【構成】 円筒状基体を塗布治具に対して引上げ、該基体表面に塗膜を形成する塗布方法において、塗布液主剤と水分含有液とを混合して塗布液を得た後、該塗布液を基体表面と塗布治具とで形成される塗布液貯留部に供給して塗布する。塗布装置は、塗布液主剤を貯留する塗布液供給器7、水分含有液を貯留する水分供給器8、塗布液供給部より供給された塗布液主剤と水分供給部より供給された水分含有液を混合して塗布液を作製する混合器9、および塗布治具3を備えてなり、そして塗布治具と円筒状基体とにより、混合器から供給された塗布液を貯留する塗布液貯留部10が形成される。この塗布装置は、高感度で安定性が高く、製造品質の安定性に優れた電子写真感光体を製造するために使用される。
請求項（抜粋）：
円筒状基体を塗布治具に対して引上げ、該基体円筒状表面に塗膜を形成する塗布方法において、塗布液主剤と水分含有液とを混合して塗布液を得た後、該塗布液を基体表面と塗布治具とで形成される塗布液貯留部に供給して塗布することを特徴とする塗布方法。
IPC (4件)：
B05C 3/00
, B05C 11/10
, B05D 1/18
, G03G 5/05 102
