特許
J-GLOBAL ID：200903006240100782
レチクル
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-132402
公開番号（公開出願番号）：特開平10-319574
出願日： 1997年05月22日
公開日（公表日）： 1998年12月04日
要約：
【要約】【課題】 レチクルの拡大パターンのウエハに対する重ね合わせ精度を高精度で測定することを可能にするレチクルを提供する。【解決手段】 レチクル30は、ウエハに形成されたウエハマークに対して位置合わせをする光透過部17と、光透過部の輪郭を形成している遮光部20aとを有する重ね合わせ精度測定用パターン38を備えている。重ね合わせ精度測定用パターン38は、遮光部20a内で、光透過部17の外側に、光透過部17の中心Pに対して対称な辺を有する正方形枠状の対称形光透過部36を有している。これにより、熱膨張性のフォトレジスト膜からなり、レチクル30によって転写される重ね合わせ精度測定用マーク42は、熱膨張しても等方的に変形するので、中心P’が移動することはない。従って、レチクル30のウエハに対する重ね合わせ精度は、従来に比べて遥かに高精度に測定される。
請求項（抜粋）：
外形が所定形状の遮光部と、遮光部内に設けられ、ウエハ上のウエハマークより寸法の大きな輪郭の所定図形として形成された光透過部とからなる重ね合わせ精度測定用パターンをスクライブ領域に有し、重ね合わせ精度測定用パターンの光透過部をウエハ上のウエハマークに重ね合わせてレチクルの重ね合わせ精度を測定するようにしたレチクルにおいて、遮光部の外形が、光透過部の輪郭に直交する中心線に関して線対称であること、又は、光透過部の中心に関し点対称であることを特徴とするレチクル。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 N
, H01L 21/30 515 F
, H01L 21/30 525 B
